天津中环CVD系统

CVD系统产品用途：

　　此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计，特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔

　　电极方面的研究，通过滑动炉实现快速加热和冷却。

　　产品组成：

　　CVD系统配置：

　　1.1200度开启式真空管式炉(可选配单温区及双温区)。

　　2.滑动系统分为手动、电动滑动，并配有风冷系统。

　　3.内外双石英管，采用真空可通气氛双法兰特殊连接。

　　4.多路气体流量控制系统(质子流量控制器和浮子流量控制器)

　　5.真空系统(可选配中真空或高真空)

　　CVD系统产品特点：

　　1 控制电路选用模糊PID程控技术，该技术控温精度高，热惯性小，温度不过冲，性能可靠，操作简单。

　　2 气路快速连接法兰结构采用本公司的知识产权设计,提高操作便捷性。

　　3 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能，高真空系统采用高压强，耐冲击分子泵，防止意外漏气造成分子泵损坏，延长系统使用寿命。

　　4 (电动)滑动系统采用温度控制器自动控制炉体移动，等程序完成，炉体按设定的速度滑动，因有滑动限位功能，炉体不会发生碰撞，待样品露出炉体后，通过风冷系统快速降温。

　　5 双管真空密封法兰，反应气体可以在内外管之间发生反应，冷却气体可通过内管，从而使内管外壁温度降低。

　　CVD系统产品来源：

　　http://www.chem17.com/st102089/erlist_834582.html

　　http://www.ctjzh.net/SonList-834582.html