PECVD系统厂家

PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。

　　产品组成

　　PECVD系统配置;

　　1.1200度开启式滑动单温区真空管式炉

　　2.等离子射频电源

　　3.多路质量流量控制系统

　　4.真空系统(单独购买)

　　产品特点

　　电源范围广;温度范围宽;溅射区域长;整管可调;精致小巧，性价比高，可实现快速升降温，是实验室生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等的理想选择，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。

　　系统名称：集成型PECVD系统　　系统型号：PE

　　控制方式：液晶屏微PLC控制系统

　　极限温度：1200℃　　加热区长度：200mm

　　恒温区长度：100mm　　温区：单温区

　　石英管管径：Φ60mm　　额定功率：1.2Kw

　　额定电压：220V　　滑动方式及距离：自动滑动;200mm

　　温度控制：30段程序控温　　控制精度：±1℃

　　炉管极限工作温度：<1200℃

　　PECVD系统产品来源：

　　http://www.chem17.com/st102089/erlist_1156085.html

　　http://www.ctjzh.net/SonList.html